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長(cháng)江存儲國家存儲器基地項目(一期)
暫時(shí)沒有信息! 暫時(shí)沒有信息! 暫時(shí)沒有信息! 暫時(shí)沒有信息!
長(cháng)江存儲科技有限責任公司國家存儲器基地項目(一期)
12
英寸
3D NAND Flash
閃存芯片生産
建築面積
62
萬平米;投資額
80
億美(měi)元;
工作範圍包括工程總承包
同一系列項目
SAME SERIES OF PROJECTS
長(cháng)江存儲國家存儲器基地項目(一期)
紫光(guāng)南(nán)京12英寸存儲器項目
株洲南(nán)車8英寸IGBT芯片項目
英諾賽科8英寸氮化(huà)镓項目
西安奕斯偉項目12寸矽片
天津三安光(guāng)電砷化(huà)镓/氮化(huà)镓超高(gāo)亮度發光(guāng)二極管
上海宏力半導體8英寸芯片項目
廈門通(tōng)富先進封裝測試項目
三星12英寸3D NAND Flash芯片一期、二期項目
瑞薩半導體北(běi)京集成電路封裝測試項目
美(měi)光(guāng)半導體西安集成電路封裝測試項目
合肥力晶12英寸集成電路芯片項目
杭州士蘭微電子8英寸IC/MEMS項目
廣州粵芯半導體項目-12寸晶圓制造廠
Produced By CMS 網站群内容管理(lǐ)系統 publishdate:2023/10/12 14:41:36